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Cadence数字和定制/模拟设计流程获得台积电N3E 和N2工艺技术认证
cc博主2023-05-09【人工智能】212人已围观
【CC博客】5月9日消息,楷登电子(美国 Cadence 公司)近日宣布,Cadence 数字和定制/模拟设计流程已通过台积电(TSMC)N3E 和 N2 先进工艺的设计规则手册(DRM)认证。两家公司还发布了相应的 N3E 和 N2 制程设计套件(PDK),以加快在上述节点的移动、人工智能和超大规模计算的 IC 设计创新。客户已开始积极使用这些新的工艺节点和经过认证的 Cadence® 流程来实现功率、性能和面积(PPA)目标,简化模拟迁移过程,并缩短上市时间。
Cadence 和 TSMC 紧密合作,确保其完整的 RTL-to-GDS 流程符合 TSMC 的 N3E 和 N2 节点要求,其中包括 Innovus™ Implementation System、Quantus™ Extraction Solution 和 Quantus Field Solver、Tempus™ Timing Signoff Solution 和 ECO Option、Pegasus™ Verification System、Liberate™ Characterization Portfolio、Voltus™ IC Power Integrity Solution 以及 Voltus-Fi Custom Power Integrity Solution。Genus™ Synthesis Solution 结合预测性质的 iSpatial 技术也支持最新的 N3E 和 N2 技术。
完整的 Cadence 数字实现和签核流程支持一系列新的设计特征,包括为了在 N3E 节点上实现最佳 PPA 结果,从综合到签核工程变更命令(ECO)都可以使用原生的混合单元行优化技术;以及对单元引脚对齐和连接的支持。该流程可供客户快速采用,以便他们体验最新的 TSMC N3E 和 N2 工艺技术所带来的优势。
Cadence Virtuoso® Studio,包括 Virtuoso Schematic Editor、Virtuoso ADE Suite 和 Virtuoso Layout Suite,以及 Spectre® Simulation Platform,包括 Spectre X Simulator、Spectre Accelerated Parallel Simulator (APS)、Spectre eXtensive Partitioning Simulator (XPS) 和 Spectre RF Option,这些产品在管理工艺角仿真、统计分析、设计中心化和电路优化上均做了改进。最新的 Virtuoso ADE Suite 架构能够在现代计算集群或公有云/私有云中并行运行多达数千个仿真点,从而帮助用户优化设计。
Virtuoso Layout Suite 包含多项创新,旨在提供更高效的 IC layout,以提供更好的性能和扩展性;基于网格的结构化器件摆放方法,在布局、布线、填充和 dummy 的插入上具有互动式的助理功能;一个新的器件级自动布线工具,旨在解决先进制程节点上的挑战;在 TSMC 先进制程节点上跨节点移植定制设计和 layout,具有增强的模拟迁移和 layout 重用功能;集成的寄生参数提取和 EM-IR 检查;以及结合 Pegasus Verification Solution,进行集成式签核级别的物理验证能力。
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